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在加工晶片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後對映到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽片上的電路圖。在半導體晶片製造...
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