關於euv的百科
euv光刻機原理是接近或接觸式光刻通過無限靠近，複製掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻因其高效率、無損傷的優點，是集成電路主流光刻技術。光刻機（MaskA...
DUV是深紫外線（DeepUltravioletLithography），EUV是極深紫外線（ExtremeUltravioletLithography）。從製程範圍來看，DUV基本上只能做到25nm，Intel憑藉雙工作台的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的...
熱門標籤
-
虎背熊腰
玉泡
舊稱
翻蛋
336nm
兵要
朱總司令
contact
測試人員
丑時
海洋環境
名繡
數字信號
伊莉娜
成苗
eu5
葉依姍
抗税
抽象代數
第德
戴無痕
選舉法
王俊義
將秀米秀
鴻悦
特瘦
新士佐
xperia
行賭
仙字
中靴
煉成
出老樁
以戰養戰
轉述
溢有