關於蒸發鍍和濺射鍍

濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜相比，的確有許多優點。不過，熱蒸發鍍膜成本比濺射低。可以用熱蒸發的情況下，用熱蒸發划算。

真空蒸發是在真空下進行的蒸發操作。在真空蒸發流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝。

濺射鍍用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現象。若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用於高熔點金屬、合金、半導體和各類化合物的鍍覆二目前主要用於製備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮