关于euv的百科
DUV是深紫外线(DeepUltravioletLithography),EUV是极深紫外线(ExtremeUltravioletLithography)。从制程范围来看,DUV基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的...
euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近,复制掩模板上的图案;直写式光刻是将光束聚焦为一点,通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点,是集成电路主流光刻技术。光刻机(MaskA...
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