微弧氧化的影響因素

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微弧氧化的影響因素

1、工件材質及表面狀:微弧氧化對鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金,只要閥金屬比例佔到40%以上,均可用於微弧氧化,且能得到理想膜層。表面狀態一般不需要經過拋光處理,對於粗糙的表面,經過微弧氧化,可修復的平整光滑;對於粗糙度低的表面,則會增加粗糙度。

2、液體成分對氧化造成影響:電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物鹼性鹽溶液,如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下,電解質濃度越大,成膜速度就越快,溶液温度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液温度上升較快。

3、温度對微弧氧化影響:微弧氧化與陽極氧化不同,所需温度範圍較寬。由於微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體温度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換製冷系統以控制槽液温度。

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