靶材是什麼

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單説的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用於高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。

靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨着應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic製造商．近段時間致力於低電阻率銅佈線的開發，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將大幅增加ITO靶材的技術與市場需求。此外在存儲技術方面，高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續增加，這些均導致應用產業對靶材的需求發生變化。