地球臭氧層破壞的主要原因是什麼

地球臭氧層破壞的主要原因是過多地使用氯氟烴類化學物質，氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產，在第二次世界大戰後，尤其是進入60年以後開始大量使用，主要用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑等。氯氟烴在低層大氣平流層中，由於強烈的太陽光的作用，氧經過光化學反應後生成臭氧。平流層中的臭氧是日光中短波紫外線的天然過濾器，如果臭氧層被破壞，強烈的紫外線將直接照射到地面上，使地球上的生物受到不同程度的傷害。